1. 補鍍硬鉻的適應性


a. 由于電(dian)(dian)網停電(dian)(dian),鍍鉻中途斷(duan)電(dian)(dian),來(lai)電(dian)(dian)后需要(yao)繼(ji)續補鍍鉻以達到(dao)規定厚(hou)度者(zhe)。


b. 由于工作上的失誤,不(bu)銹鋼表面局部鍍上硬鉻而另一部分尚未鍍上鉻,需要在已鍍硬鉻表面和未鍍上硬鉻的不銹鋼表面上繼續鍍硬鉻至規定厚度者。


c. 鍍(du)完硬(ying)鉻后(hou)鉻層(ceng)厚度未達(da)到規(gui)定尺寸(cun),或在磨光硬(ying)鉻層(ceng)后(hou)產(chan)品尺寸(cun)未達(da)規(gui)定要(yao)求者。


 以上諸種情況,可以不(bu)采用退(tui)除鉻層重鍍鉻,而(er)可實施(shi)在表面上補(bu)鍍硬鉻。



2. 工藝(yi)分(fen)析


  鉻(ge)上(shang)補(bu)鍍(du)鉻(ge)和不(bu)銹鋼(gang)(gang)(gang)(gang)鍍(du)鉻(ge)的(de)表(biao)(biao)面(mian)活(huo)化(hua)處理(li)不(bu)盡相同,鉻(ge)上(shang)鍍(du)鉻(ge)是(shi)要將(jiang)鍍(du)鉻(ge)表(biao)(biao)面(mian)作為陽(yang)極(ji)(ji)(ji)(ji)進行腐(fu)蝕一定時間,以(yi)形成(cheng)微觀粗糙的(de)活(huo)化(hua)表(biao)(biao)面(mian),再將(jiang)鍍(du)件轉換成(cheng)陰極(ji)(ji)(ji)(ji),再階梯遞升電流(liu)到工藝規范的(de)電流(liu)進行鍍(du)鉻(ge)。不(bu)銹鋼(gang)(gang)(gang)(gang)表(biao)(biao)面(mian)電鍍(du)是(shi)將(jiang)表(biao)(biao)面(mian)作為陰極(ji)(ji)(ji)(ji)以(yi)小電流(liu)活(huo)化(hua),利(li)用陰極(ji)(ji)(ji)(ji)釋放的(de)原(yuan)子態氫還原(yuan)不(bu)銹鋼(gang)(gang)(gang)(gang)表(biao)(biao)面(mian)的(de)鈍化(hua)膜(或稱氧化(hua)膜),達到活(huo)化(hua)目的(de)。在此(ci)情況下(xia),為使(shi)漏(lou)鍍(du)的(de)不(bu)銹鋼(gang)(gang)(gang)(gang)活(huo)化(hua),又要使(shi)鉻(ge)層表(biao)(biao)面(mian)活(huo)化(hua),應選擇陰極(ji)(ji)(ji)(ji)活(huo)化(hua)為主(zhu),陽(yang)極(ji)(ji)(ji)(ji)腐(fu)蝕為輔的(de)辦法,即鍍(du)件先作為陽(yang)極(ji)(ji)(ji)(ji)腐(fu)蝕2min,再陰極(ji)(ji)(ji)(ji)活(huo)化(hua)時間相當于15min,隨后陰極(ji)(ji)(ji)(ji)電流(liu)逐步(bu)上(shang)升,不(bu)銹鋼(gang)(gang)(gang)(gang)表(biao)(biao)面(mian)和鉻(ge)層表(biao)(biao)面(mian)逐步(bu)達到鉻(ge)的(de)析出(chu)電位,沉積了鉻(ge)層。




3. 補(bu)鍍硬鉻(ge)工藝流程


 化學除(chu)油(you)(用去油(you)劑在室溫(wen)下擦(ca)洗)→水(shui)洗→酸(suan)洗[鹽酸(suan)10%(質量分數)清洗]→水(shui)洗→酸(suan)洗漏鍍處(4+1氫氟酸(suan))→水(shui)洗→人槽(cao)→預熱→陽極腐蝕(DA15~20A/d㎡,時間2min)→陰極活化(DK 5A/d㎡2,階梯(ti)遞升電流,每隔1~2min提(ti)(ti)升一次(ci)電流,提(ti)(ti)升幅度1~4A/d㎡,約提(ti)(ti)升8次(ci),共10~15min升至(zhi)正常電流)→正常鍍鉻(DK 15~40A/d㎡,時間鍍至(zhi)最(zui)小厚度超過所需(xu)厚度)→水(shui)洗→檢驗→除(chu)氫。


 經過上述工藝流程的補鍍鉻(ge),原來漏(lou)鍍處經檢查也全(quan)部(bu)補鍍齊(qi),無一處鉻(ge)層(ceng)脫落。