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不銹(xiu)鋼(gang)(gang)管材(cai)制(zhi)品(pin)經過拋(pao)光(guang)也(ye)可以有不同的(de)表(biao)面(mian)加工(gong),但是(shi)(shi)不銹(xiu)鋼(gang)(gang)管材(cai)制(zhi)品(pin)沒有表(biao)面(mian)加工(gong)編號,通(tong)常是(shi)(shi)用(yong)磨料(liao)粒度來表(biao)示(shi),如:80、120、180和(he)(he)320等。不銹(xiu)鋼(gang)(gang)無縫鋼(gang)(gang)管的(de)內(nei)壁采(cai)用(yong)電解拋(pao)光(guang)用(yong)于乳(ru)制(zhi)品(pin)、食品(pin)和(he)(he)藥品(pin)等行業(ye),清(qing)潔(jie)和(he)(he)耐腐(fu)蝕是(shi)(shi)它(ta)們(men)最基(ji)本(ben)的(de)條件,配(pei)套管件的(de)內(nei)壁也(ye)需電解拋(pao)光(guang)。管子...
不銹鋼表(biao)(biao)面加工(gong)的(de)(de)制作方(fang)法(fa)可(ke)以歸納為6種方(fang)法(fa),不同的(de)(de)表(biao)(biao)面加工(gong)方(fang)法(fa)也(ye)可(ke)組合(he)使用,按(an)不同工(gong)藝分(fen)為不同的(de)(de)軋制表(biao)(biao)面加工(gong)等級。1.機械法(fa) 在(zai)軋制表(biao)(biao)面加工(gong)的(de)(de)基礎上再經機械加工(gong)如:車(che)削、噴丸、研磨、拋光(guang)、擦光(guang)、刷光(guang),形成不同的(de)(de)表(biao)(biao)面加工(gong): ①.噴丸處理是使噴丸(玻璃球、陶...
一、鍍前處理1.除(chu)油(you)①.有機溶(rong)劑除(chu)油(you) 除(chu)去拋光后的油(you)污。②.化學除(chu)油(you) 氫氧(yang)化鈉10~20g/L,碳酸鈉20~30g/L,磷酸三鈉20~30g/L,乳(ru)化劑OP-103~5g/L,溫度70~90℃,時間10~30min,至油(you)污除(chu)盡...
近年來,隨著(zhu)不(bu)銹(xiu)鋼在建材(cai)、汽車、家電、廚房設施等行業用途的(de)(de)擴(kuo)大(da),對不(bu)銹(xiu)鋼表(biao)面加工有(you)了更多的(de)(de)需求,防(fang)(fang)指紋(wen)、易清潔、耐磨等一(yi)些新(xin)功能的(de)(de)表(biao)面加工正在研制與開發,有(you)以下幾方面的(de)(de)發展。 1.意大(da)利安裝了35套新(xin)的(de)(de)連續刷光(guang)機(ji),生(sheng)產(chan)無光(guang)澤(防(fang)(fang)指紋(wen))表(biao)面加工的(de)(de)不(bu)銹(xiu)鋼鋼卷...
1.鍍(du)硬鉻(ge)的制(zhi)品材(cai)料及要求(qiu) 制(zhi)件為紡機梳片,材(cai)料為2Cr13馬(ma)氏(shi)體不銹鋼(gang),零件尺寸為6mm×120mm×0.9mm,要求(qiu)鍍(du)硬鉻(ge),以期提高零件的耐磨(mo)性能,延(yan)長使用壽命(ming)。對鉻(ge)層的具要求(qiu)如下。 ①.鉻(ge)鍍(du)層與不銹鋼(gang)表面(mian)結合力良好。 ②.片狀平板零件的邊(bian)...
1.外觀 要求(qiu)光澤(ze)均勻,結晶(jing)細(xi)致,不(bu)粗糙、不(bu)起皮(pi)、不(bu)鼓泡、不(bu)漏底、不(bu)發暗(an)、不(bu)燒焦。2.附著強度 檢測(ce)標(biao)準GB/T5270-2005。 ①.交叉劃(hua)痕法:不(bu)起皮(pi)。 ②.彎曲(qu)實驗(yan):薄(bo)片折斷(duan)(duan)后斷(duan)(duan)口不(bu)起皮(pi)。&...
一、KCA、KCB鍍(du)鉻(ge)添加(jia)劑1.鍍(du)鉻(ge)工藝(yi)電流(liu)效率(lv)的提高 鍍(du)鉻(ge)工藝(yi)的電流(liu)效率(lv)低(di),一般只有(you)10%~13%.特別是鍍(du)較厚(hou)鉻(ge)層的硬鉻(ge)工藝(yi),要鍍(du)0.05mm厚(hou)的鉻(ge)層,往往需耗時(shi)100min(假(jia)定電流(liu)密度為50A/dm2,電流(liu)效率(lv)為13%).而一般的耐(nai)磨鍍(du)硬鉻(ge)的厚(hou)度常常都在0...
1.不銹鋼鍍(du)(du)鉻(ge)(ge)(ge)(ge)(ge)復合型添加劑(ji)的(de)(de)實(shi)驗結果(guo) 為了降(jiang)低不銹鋼電(dian)鍍(du)(du)鉻(ge)(ge)(ge)(ge)(ge)對環境的(de)(de)危害,采用正交實(shi)驗法對含納米氧(yang)化鈰(shi)(CeO2)的(de)(de)鍍(du)(du)鉻(ge)(ge)(ge)(ge)(ge)工藝進行(xing)優選,獲得了低鉻(ge)(ge)(ge)(ge)(ge)電(dian)鍍(du)(du)硬鉻(ge)(ge)(ge)(ge)(ge)的(de)(de)最佳工藝參(can)數和(he)操作(zuo)條件(jian)。實(shi)驗結果(guo)表明,加入(ru)含納米氧(yang)化鈰(shi)的(de)(de)復合添加劑(ji),降(jiang)低了鍍(du)(du)鉻(ge)(ge)(ge)(ge)(ge)液中鉻(ge)(ge)(ge)(ge)(ge)酐的(de)(de)含量和(he)生產能耗,且降(jiang)低電(dian)沉...
1.普(pu)通鍍(du)鉻(ge)(ge)溶(rong)(rong)液(ye)(ye)成分及工(gong)藝(yi)條件 普(pu)通鍍(du)鉻(ge)(ge)溶(rong)(rong)液(ye)(ye)成分及工(gong)藝(yi)條件見表4-7.2.不銹(xiu)鋼(gang)電(dian)鍍(du)鉻(ge)(ge)稀土(tu)添加(jia)劑鍍(du)液(ye)(ye)a.采用稀土(tu)為添加(jia)劑的(de)鍍(du)鉻(ge)(ge),可(ke)獲得較均勻的(de)鉻(ge)(ge)層,使用較低的(de)鉻(ge)(ge)酐和電(dian)流密(mi)度,其溶(rong)(rong)液(ye)(ye)組成和工(gong)藝(yi)條件見表4-8。b.說明 CE稀土(tu)添加(jia)劑使鍍(du)液(ye)(ye)深鍍(du)能力和...
1.不(bu)銹鋼電(dian)鍍鉻(ge)的(de)預處理 活化(hua)處理可(ke)有(you)效去除不(bu)銹鋼表面(mian)的(de)鈍(dun)化(hua)膜,解(jie)決鍍層與(yu)基體(ti)的(de)結(jie)合力(li)問題。該活化(hua)液的(de)穩態電(dian)位為-0.55V,腐蝕速(su)率在12h內為2g/(m2·h),隨后緩慢下降,它(ta)能有(you)效去除不(bu)銹鋼表面(mian)的(de)鈍(dun)化(hua)膜,且對不(bu)銹鋼基體(ti)的(de)腐蝕很小;用該配方活化(hua)的(de)不(bu)銹鋼電(dian)鍍后,...
1.不銹鋼鍍(du)(du)鉻(ge)前可(ke)采用活(huo)化(hua)-預鍍(du)(du)鎳的(de)方法獲(huo)得底層(ceng)(ceng),然(ran)后在(zai)(zai)鍍(du)(du)鎳層(ceng)(ceng)上鍍(du)(du)鉻(ge),可(ke)獲(huo)得結合力(li)良(liang)好的(de)鉻(ge)層(ceng)(ceng)。2.小電(dian)流陰(yin)極活(huo)化(hua)-階梯式電(dian)流給(gei)電(dian)-沖擊電(dian)流鍍(du)(du)鉻(ge)-正常電(dian)流鍍(du)(du)鉻(ge)至所需厚(hou)度(du)出(chu)槽(cao),如此四個階段(duan)的(de)處理和電(dian)鍍(du)(du)可(ke)以得到結合力(li)良(liang)好的(de)鍍(du)(du)層(ceng)(ceng)。3.碘化(hua)鉀(jia)(jia)陰(yin)極處理法,在(zai)(zai)含碘化(hua)鉀(jia)(jia)1g/L的(de)硫酸(suan)5%~...
不(bu)銹鋼預(yu)鍍(du)納米(mi)鎳(nie)工(gong)藝(yi)在(zai)預(yu)鍍(du)前不(bu)需(xu)預(yu)浸(jin)程序,就(jiu)可直(zhi)接電鍍(du),電鍍(du)鎳(nie)后(hou)也不(bu)必(bi)很快就(jiu)進行其他后(hou)續(xu)鍍(du)層(ceng)的電鍍(du),為(wei)不(bu)銹鋼工(gong)件的自動化(hua)電鍍(du)提供(gong)可靠的保障(zhang)。1.工(gong)藝(yi)特點 ①.環保型:無(wu)氰化(hua)物。 ②.鍍(du)層(ceng)薄:厚度200~300nm(相當于0.2~0.3μm). ...